材料科学
A
材料科学涵盖了金属、非金属无质材料、高分子材料、陶瓷、聚合物和复合材料。新材料已经成为经济增长、财富与贸易的制高点！中国与西方在智能制造和材料科学领域的竞争将日趋激烈。中国政府的政策支持，大量企业的更多投入，将不断促进我国材料科学发展、突破、直到超越。拓谱的使命是把研发和高端制造的基础材料提供给市场，拓谱新材料涵盖基础原料、稀有材料、高端材料、特种材料。
-
Iridium oxide hydrate | IrO2·xH2O氧化铱 | 氧化铱水合物CAS 号: 30980-84-8
MDL No.: MFCD00192232
产品编号: SA-I812124
分子式: IrO2·xH2O
分子量: 224.22
纯度: 99.9%，Ir:73%,蓝黑色粉末,具有卓越的电化学催化活性、高稳定性、导电、良好的生物相容性。【研究与应用方向】： 析氧反应（OER）催化剂，燃料电池电极材料，工业电解阳极涂层，高灵敏度生物传感，超级电容器。
-
Chromium sesquioxide | Cr2O3三氧化二铬 | 氧化铬绿CAS 号: 1308-38-9
MDL No.: MFCD00010949
产品编号: SA-C805714
分子式: Cr2O3
分子量: 151.99
纯度: 99.95% metals basis,鲜艳绿色结晶粉末，六方晶系。有磁性 ， 密度：5.21 - 5.22 g/cm³ 。Cr₂O₃凭借其着色力强、遮盖力好、超高稳定性、晶体硬度，已成为颜料、冶金、耐火材料领域的经典无机材料；在纳米化、电化学传感及三元催化氧化物等前沿方向展现出重要价值。【应用方向】：冶金，颜料/涂料，着色玻璃，磨料/抛光，折光材料，耐火材料，催化剂。
-
Hafnium oxide氧化铪(IV) | 二氧化铪 | 微米氧化铪粉末 | Purity:> 99.9%CAS 号: 12055-23-1
MDL No.: MFCD00003565
产品编号: SD-H811148
分子式: HfO2
分子量: 210.49
纯度: 99.9% metals basis;白色晶体;难溶于水，不溶于盐酸和硝酸，溶于浓硫酸和氢氟酸。化学性质不活泼，具有薄膜特性：透光范围：～220～12000nm；折射率（250nm）：～2.15 （500nm）～2， 高熔点，具有宽带隙和高介电常数,紫外波段优良,成膜致密坚硬且稳定。【应用方向】：电子束蒸发镀制紫外膜、防反膜、高反膜、紫外-近红外多层膜; 高温结构材料、热电偶等器件绝缘中的耐火材料、DRAM电容器中的高κ电介质、抗放射性涂料。
-
Hafnium(IV) oxide Nanopowder | HfO2氧化铪(IV) | 二氧化铪 | 纳米氧化铪 | Purity:> 99.99%;; APS(D50): 100nm，200nm，500nm，2μmCAS 号: 12055-23-1
MDL No.: MFCD00003565
产品编号: SD-H811551
分子式: HfO2
分子量: 210.49
纯度: 99.99% metals basis;ZrO2<0.4%;高温蒸气湿化学法生产，白色近球形粉末。氧化铪是带隙约 6 eV 的电绝缘体、高熔点、高介电常数的陶瓷材料。难溶于水，可溶于浓硫酸和氢氟酸。具有薄膜特性：透光范围：～220～12000nm；折射率（250nm）：～2.15 （500nm）～2。【研究与应用】：红外镀膜材料、DRAM电容器中的高k电介质、集成电路、高温结构材料、耐火材料、介电材料、抗放射性涂料和催化剂。
-
Thulium oxide | Tm2O3氧化铥 | 三氧化二铥CAS 号: 12036-44-1
MDL No.: MFCD00011285
产品编号: SA-T819027
分子式: Tm2O3
分子量: 385.87
纯度: 99.99+% metals basis，萃取色谱分离法制备，类白色粉末，密度：约8.6 g/cm³，不溶于水，能缓慢溶于强酸（如热硫酸），在空气中易吸收水分和二氧化碳。不导电，具有高介电常数（约12-13）和约5 eV的宽带隙。【研究与应用】：荧光粉的激活剂，激光、光纤及特种光学玻璃；X射线机辐射源，半导体钝化层，光动力肿瘤治疗研究。
-
Copper molybdenum oxide钼酸铜 | 铜钼氧化物 | 氧化铜钼CAS 号: 13767-34-5
MDL No.: MFCD00016057
产品编号: SA-C922307
分子式: CuMoO₄
分子量: 223.49
纯度: 99.95+% metals basis，黄绿色粉末，密度：3.4 g/cm3，尖晶石结构，具有超低的650°C烧结温度、顺磁性、电子传导能力、吸收可见光、电致变色特性，催化活性源于铜和钼氧化还原中心Cu²⁺/Cu⁺ 和 Mo⁶⁺协同效应和丰富的反应位点。【研究与应用方向】：催化与能源转换，电极材料用于高性能储能，超低温共烧陶瓷，光催化降解染料，电化学传感，抗菌材料。
-
Thulium Oxide氧化铥
CAS 号: 39455-81-7
MDL No.:
产品编号: T856177
分子式: O3Tm2
分子量: 385.86
纯度: 99.99%
-
ITO | Indium Tin Oxide Nanopowder高纯氧化铟锡 | 纳米氧化铟锡 | APS: 30nm,50nm,200nm,500nm,2μm)CAS 号: 50926-11-9
MDL No.: MFCD00171662
产品编号: SD-I812170
分子式: In2O3/SnO2
分子量: 428.34
纯度: 99.95+%，氧化铟锡是铟（III族）氧化物(In2O3) and锡（IV族）氧化物(SnO2)的混合物，比例：90%In2O3，10% SnO2。具有非常优异的导电性、透明度和稳定性。【应用方向】：透明导电体，光学涂料，电磁（EMI）屏蔽、介电润滑和VCSEL激光器反射器；LCD、OLED、等离子体、电致发光和电致变色显示器，有机发光二极管、太阳能电池、抗静电镀膜，EMI屏蔽的透明传导镀膜，红外反射涂层。
-
Indium oxide氧化铟CAS 号: 1312-43-2
MDL No.: MFCD00011060
产品编号: I875140
分子式: In2O3
分子量: 277.63
纯度: 99.9% metals basis
-
Indium oxide | In2O3氧化铟蒸发材料 | 三氧化二铟 | Size: 2000目CAS 号: 1312-43-2
MDL No.: MFCD00011060
产品编号: SD-I875139
分子式: In2O3
分子量: 277.63
纯度: 99.99% metals basis，外观：淡黄色粉末；【应用方向】：光学镀膜材料，用于半导体沉积、化学气相沉积 （CVD） 和物理气相沉积 （PVD） 等沉积工艺 ； 光学器件，包括磨损保护、装饰涂层和显示器。
-
Aluminum oxide氧化铝 金属基,α晶型约90%,晶型γ约10%CAS 号: 1344-28-1
MDL No.: MFCD00003424
产品编号: A811450
分子式: Al2O3
分子量: 101.96
纯度: 99.99% metals basis,α晶型约90%,晶型γ约10%,50nm
-
氧化铝 | α-Al2O3Aluminum oxideCAS 号: 1344-28-1
MDL No.: MFCD00003424
产品编号: SD-A811449
分子式: α-Al2O3 γ-Al2O3
分子量: 101.96
纯度: ≥99.999% 粒度分布均匀、纯度高、高分散。其比表面低，具有耐高温的惰性，但不属于活性氧化铝，几乎没有催化活性；纳米氧化铝xz-L14耐热性强，成型性好，晶相稳定、硬度高、尺寸稳定性好，可广泛应用于各种塑料、橡胶、陶瓷、耐火材料等产品的补强增韧，特别是提高陶瓷的致密性、光洁度、冷热疲劳性、断裂韧性、抗蠕变性能和高分子材料产品的耐磨性能尤为显著。由于α相氧化铝也是性能优异的远红外发射材料，作为远红外发射和保温材料被应用于化纤产品和高压钠灯中。此外，α相氧化铝电阻率高，具有良好的绝缘性能，可应用于YGA激光晶的主要配件和集成电路基板中。